गंधक को जलाकर रोस्टिंग गैस प्राप्त करते समय उसे अशुद्धियों से साफ करने की आवश्यकता नहीं होती है। तैयारी के चरण में केवल गैस सुखाने और एसिड निपटान शामिल होगा। जब सल्फर को जलाया जाता है, तो एक अपरिवर्तनीय एक्ज़ोथिर्मिक प्रतिक्रिया होती है:

एस + हे 2 = इसलिए 2 (1)

बहुत बड़ी मात्रा में गर्मी की रिहाई के साथ: एच \u003d -362.4 kJ / mol में परिवर्तन, या द्रव्यमान की इकाई 362.4 / 32 \u003d 11.325 kJ / t \u003d 11325 kJ / kg S के संदर्भ में।

दहन के लिए आपूर्ति किया गया पिघला हुआ तरल सल्फर 444.6 *C के तापमान पर वाष्पित हो जाता है (उबाल जाता है); वाष्पीकरण की ऊष्मा 288 kJ/kg है। जैसा कि उपरोक्त आंकड़ों से देखा जा सकता है, सल्फर की दहन प्रतिक्रिया की गर्मी फीडस्टॉक को वाष्पित करने के लिए पर्याप्त है, इसलिए सल्फर और ऑक्सीजन की बातचीत गैस चरण (सजातीय प्रतिक्रिया) में होती है।

उद्योग में सल्फर का दहन निम्नानुसार किया जाता है। सल्फर पहले से पिघलाया जाता है (इसके लिए आप सल्फर की मुख्य दहन प्रतिक्रिया की गर्मी का उपयोग करके प्राप्त जल वाष्प का उपयोग कर सकते हैं)। चूंकि सल्फर का गलनांक अपेक्षाकृत कम होता है, इसलिए यांत्रिक अशुद्धियों को अलग करना आसान होता है जो कि सल्फर से बसने और बाद में निस्पंदन द्वारा तरल चरण में पारित नहीं हुए हैं, और पर्याप्त शुद्धता का फीडस्टॉक प्राप्त करते हैं। गलित गंधक को जलाने के लिए दो प्रकार की भट्टियों का प्रयोग किया जाता है- नोक और चक्रवात।इसके तेजी से वाष्पीकरण और तंत्र के सभी हिस्सों में हवा के साथ विश्वसनीय संपर्क सुनिश्चित करने के लिए उनमें तरल सल्फर के छिड़काव के लिए प्रदान करना आवश्यक है।

भट्ठा से, बरस रही गैस अपशिष्ट ताप बॉयलर में और फिर बाद के उपकरणों में प्रवेश करती है।

रोस्टिंग गैस में सल्फर डाइऑक्साइड की सांद्रता सल्फर और दहन के लिए आपूर्ति की गई हवा के अनुपात पर निर्भर करती है। यदि हवा को स्टोइकोमेट्रिक मात्रा में लिया जाता है, अर्थात। सल्फर के प्रत्येक मोल के लिए 1 मोल ऑक्सीजन, फिर सल्फर के पूर्ण दहन के साथ, सांद्रता वायु C में ऑक्सीजन के आयतन अंश के बराबर होगी 2. अधिकतम \u003d 21%। हालांकि, हवा आमतौर पर अधिक मात्रा में ली जाती है, अन्यथा भट्ठी का तापमान बहुत अधिक होगा।

सल्फर के रुद्धोष्म दहन के साथ, स्टोइकोमेट्रिक संरचना के प्रतिक्रिया मिश्रण के लिए फायरिंग तापमान ~ 1500*C होगा। व्यावहारिक रूप से, भट्ठी में तापमान बढ़ने की संभावना इस तथ्य से सीमित है कि 1300*C से ऊपर भट्ठी और गैस नलिकाओं की परत जल्दी नष्ट हो जाती है। आमतौर पर, सल्फर को जलाने पर, 13 - 14% SO 2 युक्त रोस्टिंग गैस प्राप्त होती है।

2. SO2 से SO3 के संपर्क ऑक्सीकरण

सल्फर डाइऑक्साइड का संपर्क ऑक्सीकरण विषम ऑक्सीडेटिव एक्ज़ोथिर्मिक कटैलिसीस का एक विशिष्ट उदाहरण है।

यह सबसे अधिक अध्ययन किए गए उत्प्रेरक संश्लेषणों में से एक है। यूएसएसआर में, एसओ 2 से एसओ 3 के ऑक्सीकरण के अध्ययन और उत्प्रेरक के विकास पर सबसे गहन काम जी.के. बोरेस्कोव। सल्फर डाइऑक्साइड ऑक्सीकरण प्रतिक्रिया

इसलिए 2 + 0,5 हे 2 = इसलिए 3 (2)

सक्रियण ऊर्जा के बहुत उच्च मूल्य की विशेषता है और इसलिए इसका व्यावहारिक कार्यान्वयन केवल उत्प्रेरक की उपस्थिति में ही संभव है।

उद्योग में, SO 2 के ऑक्सीकरण के लिए मुख्य उत्प्रेरक वैनेडियम ऑक्साइड V 2 O 5 (वैनेडियम संपर्क द्रव्यमान) पर आधारित उत्प्रेरक है। इस प्रतिक्रिया में उत्प्रेरक गतिविधि अन्य यौगिकों, मुख्य रूप से प्लैटिनम द्वारा भी दिखाई जाती है। हालांकि, प्लैटिनम उत्प्रेरक आर्सेनिक, सेलेनियम, क्लोरीन और अन्य अशुद्धियों के निशान के प्रति भी बेहद संवेदनशील हैं, और इसलिए धीरे-धीरे वैनेडियम उत्प्रेरक द्वारा प्रतिस्थापित किया गया।

ऑक्सीजन सांद्रता में वृद्धि के साथ प्रतिक्रिया दर बढ़ जाती है, इसलिए उद्योग में प्रक्रिया को इसकी अधिकता के साथ किया जाता है।

चूंकि SO 2 ऑक्सीकरण प्रतिक्रिया एक्ज़ोथिर्मिक प्रकार से संबंधित है, इसलिए इसके कार्यान्वयन के लिए तापमान शासन को इष्टतम तापमान की रेखा तक पहुंचना चाहिए। उत्प्रेरक के गुणों से जुड़े दो प्रतिबंधों द्वारा तापमान मोड का विकल्प अतिरिक्त रूप से लगाया जाता है। निम्न तापमान सीमा वैनेडियम उत्प्रेरक का प्रज्वलन तापमान है, जो विशिष्ट प्रकार के उत्प्रेरक और गैस संरचना के आधार पर 400 - 440 * C है। ऊपरी तापमान सीमा 600 - 650*C है और यह इस तथ्य से निर्धारित होता है कि इन तापमानों से ऊपर उत्प्रेरक संरचना को पुनर्व्यवस्थित किया जाता है और यह अपनी गतिविधि खो देता है।

400 - 600 * C की सीमा में, प्रक्रिया को इस तरह से करने की कोशिश की जाती है कि जैसे-जैसे रूपांतरण की डिग्री बढ़ती है, तापमान कम होता जाता है।

अक्सर उद्योग में, बाहरी ताप विनिमय वाले शेल्फ संपर्क उपकरणों का उपयोग किया जाता है। हीट एक्सचेंज स्कीम में स्रोत गैस को गर्म करने और अलमारियों के बीच गैस को एक साथ ठंडा करने के लिए प्रतिक्रिया की गर्मी का अधिकतम उपयोग होता है।

सल्फ्यूरिक एसिड उद्योग के सामने सबसे महत्वपूर्ण कार्यों में से एक सल्फर डाइऑक्साइड के रूपांतरण की डिग्री को बढ़ाना और वातावरण में इसके उत्सर्जन को कम करना है। इस समस्या को कई तरह से हल किया जा सकता है।

इस समस्या को हल करने के लिए सबसे तर्कसंगत तरीकों में से एक, जिसका व्यापक रूप से सल्फ्यूरिक एसिड उद्योग में उपयोग किया जाता है, डबल संपर्क और डबल अवशोषण विधि (डीकेडीए) है। संतुलन को दाईं ओर स्थानांतरित करने और प्रक्रिया की उपज बढ़ाने के लिए, साथ ही प्रक्रिया की गति को बढ़ाने के लिए, इस पद्धति के अनुसार प्रक्रिया की जाती है। इसका सार इस तथ्य में निहित है कि प्रतिक्रिया मिश्रण, जिसमें SO 2 के रूपांतरण की डिग्री 90 - 95% है, को ठंडा किया जाता है और SO 3 को अलग करने के लिए एक मध्यवर्ती अवशोषक को भेजा जाता है। शेष प्रतिक्रिया गैस में, O2:SO2 का अनुपात काफी बढ़ जाता है, जिससे प्रतिक्रिया संतुलन दाईं ओर शिफ्ट हो जाता है। नई गर्म प्रतिक्रिया गैस को फिर से संपर्क उपकरण में डाला जाता है, जहां शेष SO 2 के रूपांतरण का 95% एक या दो उत्प्रेरक परतों पर पहुंच जाता है। इस प्रक्रिया में SO 2 का कुल रूपांतरण 99.5% - 99.8% है।

मास्को राज्य अकादमी

ललित रासायनिक प्रौद्योगिकी

एमवी के नाम पर लोमोनोसोव

कोर्स वर्क

अनुशासन से: रासायनिक प्रौद्योगिकी के मूल सिद्धांत

विषय पर:

सल्फर से सल्फ्यूरिक एसिड का उत्पादन।

शिक्षक:इगुमनोव मिखाइल स्टेपानोविच

विद्यार्थी: ट्रॉयन नताल्या सर्गेवना

ग्रुप एम-32

मास्को.1999

परिचय ……………………………। ……………………………………… 3

कच्चा माल ................................................ .........................................................7

लक्ष्य उत्पाद के लक्षण …………………………… 8

प्रक्रिया की रासायनिक योजना …………………………… .. 10

1. सल्फर जलना। ......................................................................... 10

2. SO 2 से SO 3 का संपर्क ऑक्सीकरण ............................................ 11

3. सल्फर ट्राइऑक्साइड का अवशोषण। ..................................................... 12

गणना कार्य …………………………… ...........................चौदह

गणना करना ……………………………… ...............................पंद्रह

.................................. 15

............................. 16

3. सामग्री संतुलन। ............................................................. 19

ग्रंथ सूची………………………….. ................ बीस

परिचय।

सल्फ्यूरिक एसिड सबसे मजबूत और सस्ता एसिड है। रासायनिक उद्योग द्वारा उत्पादित खनिज अम्लों में सल्फ्यूरिक अम्ल उत्पादन और उपभोग की दृष्टि से प्रथम स्थान पर है। सल्फ्यूरिक एसिड धूम्रपान नहीं करता है, केंद्रित रूप में यह लौह धातुओं को नष्ट नहीं करता है, साथ ही यह एक विस्तृत तापमान सीमा (-40 ... -20 से 260 - 336.5 * सी) में सबसे मजबूत एसिड में से एक है। तरल अवस्था में है। यह व्यापक रूप से खनिज उर्वरकों, विभिन्न लवणों और अम्लों, सभी प्रकार के जैविक उत्पादों, रंगों, धुएं और विस्फोटकों आदि के उत्पादन में उपयोग किया जाता है। सल्फ्यूरिक एसिड पेट्रोलियम, धातु विज्ञान, धातु, कपड़ा, चमड़ा और अन्य उद्योगों में विभिन्न अनुप्रयोगों का पता लगाता है, इसका उपयोग जल विकर्षक और सुखाने वाले एजेंट के रूप में किया जाता है, जिसका उपयोग बेअसर, अचार बनाने आदि प्रक्रियाओं में किया जाता है। सल्फ्यूरिक एसिड के सबसे महत्वपूर्ण अनुप्रयोगों को आरेख में दिखाया गया है।

13 वीं शताब्दी में, फेरस सल्फेट FeSO 4 के थर्मल अपघटन द्वारा सल्फ्यूरिक एसिड कम मात्रा में प्राप्त किया गया था, इसलिए, अब भी सल्फ्यूरिक एसिड की किस्मों में से एक को विट्रियल ऑयल कहा जाता है, हालांकि लंबे समय तक विट्रियल से सल्फ्यूरिक एसिड का उत्पादन नहीं किया गया है। समय।

वर्तमान में, सल्फ्यूरिक एसिड दो तरीकों से निर्मित होता है: नाइट्रस, जो 200 से अधिक वर्षों से अस्तित्व में है, और संपर्क, 19 वीं सदी के अंत और 20 वीं शताब्दी की शुरुआत में उद्योग में महारत हासिल है। संपर्क विधि नाइट्रस (टॉवर) विधि को विस्थापित करती है। किसी भी विधि से सल्फ्यूरिक एसिड के उत्पादन का पहला चरण सल्फरस कच्चे माल को जलाने से सल्फर डाइऑक्साइड का उत्पादन होता है। सल्फर डाइऑक्साइड (विशेष रूप से संपर्क विधि में) के शुद्धिकरण के बाद, इसे सल्फर ट्राइऑक्साइड में ऑक्सीकृत किया जाता है, जिसे सल्फ्यूरिक एसिड प्राप्त करने के लिए पानी के साथ जोड़ा जाता है। SO2 से SO3 का ऑक्सीकरण सामान्य परिस्थितियों में अत्यंत धीमी गति से होता है। उत्प्रेरक का उपयोग प्रक्रिया को गति देने के लिए किया जाता है।

वर्तमान में सांद्र सल्फ्यूरिक अम्ल, ओलियम तथा 100% सल्फ्यूरिक एनहाइड्राइड संपर्क विधि द्वारा प्राप्त किए जाते हैं।

साथ ही सल्फ्यूरिक एसिड के उत्पादन में वृद्धि के साथ, सल्फ्यूरिक एसिड पौधों के उत्पादों की श्रेणी का विस्तार हो रहा है, अल्ट्रा-प्योर एसिड, 100% SO 2, उच्च गुणवत्ता वाले ओलियम और एसिड का उत्पादन आयोजित किया जा रहा है, और नए उत्पादन का उत्पादन किया जा रहा है। SO 2 पर आधारित उत्पाद भी बढ़ रहे हैं। ओलियम, केंद्रित सल्फ्यूरिक एसिड और बैटरी एसिड के अलावा, घरेलू कारखाने भी बेहतर गुणवत्ता (कृत्रिम फाइबर, टाइटेनियम सफेद, आदि के उत्पादन के लिए), शुद्ध ओलियम, और रासायनिक रूप से शुद्ध और प्रतिक्रियाशील सल्फ्यूरिक एसिड के अधिक शुद्ध संपर्क एसिड का उत्पादन करते हैं।

हाल के वर्षों में सल्फ्यूरिक एसिड के उत्पादन में महत्वपूर्ण सुधार हुए हैं। एक द्रवित बिस्तर में पाइराइट भूनना और एक चक्रवात भट्टी में जलते हुए सल्फर का व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है, कच्चे माल के भूनने के दौरान और सल्फ्यूरिक एसिड उत्पादन के अन्य चरणों में निकलने वाली गर्मी का उपयोग काफी बढ़ जाता है। अनुसंधान के आधार पर विकसित इष्टतम तकनीकी व्यवस्था को बनाए रखने के परिणामस्वरूप सल्फ्यूरिक एसिड टॉवर सिस्टम की उत्पादकता लगातार बढ़ रही है; टॉवर सिस्टम की तीव्रता प्रति दिन 250 किग्रा / मी 3 तक पहुँच जाती है। सल्फ्यूरिक एसिड के उत्पादन के लिए एक संपर्क-टॉवर प्रक्रिया में महारत हासिल की गई है, जिसमें एचएनओ 3 की खपत एच 2 एसओ 4 के प्रति 1 टन 6-7 किलोग्राम है।

संपर्क मेंसल्फ्यूरिक एसिड उत्पादन विधि में, सल्फर डाइऑक्साइड का ट्राइऑक्साइड में ऑक्सीकरण ठोस संपर्क द्रव्यमान पर किया जाता है। उत्पादन की संपर्क विधि में सुधार के लिए धन्यवाद, शुद्ध और अत्यधिक केंद्रित संपर्क सल्फ्यूरिक एसिड की लागत टावर एसिड की तुलना में केवल थोड़ी अधिक है। वर्तमान में, सभी एसिड का 90% से अधिक संपर्क विधि द्वारा उत्पादित किया जाता है।

कम प्रज्वलन तापमान के साथ थर्मली स्थिर वैनेडियम संपर्क द्रव्यमान (कणिकाओं और छल्ले के रूप में) अब संपर्क प्रक्रिया उत्प्रेरक के रूप में उपयोग किया जाता है। द्रवीकृत उत्प्रेरक बिस्तर में SO 2 ऑक्सीकरण की प्रक्रिया में महारत हासिल करने के लिए काम किया गया है। एक महत्वपूर्ण सुधार दोहरा संपर्क है, जो उत्प्रेरक (99.8% तक) पर SO 2 का उच्च स्तर का ऑक्सीकरण प्रदान करता है और इसलिए निकास गैसों की अतिरिक्त स्वच्छता सफाई की आवश्यकता को समाप्त करता है।

सल्फ्यूरिक एनहाइड्राइड के अवशोषण की जगह, एच 2 एसओ 4 के संक्षेपण की प्रक्रिया शुरू की गई है।

इसके अलावा, सल्फ्यूरिक एसिड, एनहाइड्राइड या निर्जल कैल्शियम सल्फेट CaSO 4, जिप्सम या डाइहाइड्रेट CaSO 4 * 2H 2 O और फॉस्फोजिप्सम के उत्पादन के लिए, जो कि केंद्रित फास्फोरस उर्वरकों (जिप्सम, फ्लोरीन यौगिकों, फास्फोरस का मिश्रण) के उत्पादन से अपशिष्ट है। ऑक्साइड, SO2 और अन्य अशुद्धियाँ) का उपयोग किया जाता है।

नाइट्रस मेंनाइट्रोजन ऑक्साइड उत्प्रेरक का काम करते हैं। SO2 का ऑक्सीकरण मुख्यतः द्रव अवस्था में होता है और पैक्ड टावरों में किया जाता है। इसलिए, हार्डवेयर विशेषता के अनुसार नाइट्रस विधि को कहा जाता है मीनार. नाइट्रस विधि का सार यह है कि रोस्टिंग गैस को सल्फ्यूरिक एसिड से उपचारित किया जाता है, जिसमें नाइट्रोजन ऑक्साइड घुल जाते हैं। रोस्टिंग गैस के सल्फ्यूरस एनहाइड्राइड को नाइट्रोस द्वारा अवशोषित किया जाता है, और फिर प्रतिक्रिया के अनुसार नाइट्रोजन ऑक्साइड द्वारा ऑक्सीकृत किया जाता है: SO 2 + N 2 O 3 + H 2 O = H 2 SO 4 + 2NO। परिणामी NO नाइट्रोस में खराब घुलनशील है और इसे छोड़ा जाता है और फिर आंशिक रूप से ऑक्सीजन द्वारा NO 2 में ऑक्सीकृत किया जाता है। NO और NO 2 का मिश्रण H 2 SO 4 द्वारा पुन: अवशोषित हो जाता है।

उद्योग तीन प्रकार के वाणिज्यिक सल्फ्यूरिक एसिड का उत्पादन करता है:

टावर एसिड: C=75%, t क्राइस्ट = -29.5*C

संपर्क एसिड: सी = 92.5%, टी क्रिस्ट = -22.0 * सी

ओलियम: सी = 20% मुक्त SO 3, टी क्रिस्ट = +2*С

सल्फ्यूरिक एसिड के उपयोग की योजना

प्रारंभिक कच्चा माल।

परंपरागत रूप से, कच्चे माल के मुख्य स्रोत सल्फर और आयरन (सल्फर) पाइराइट हैं। यूएसएसआर में लगभग आधा सल्फ्यूरिक एसिड सल्फर से प्राप्त किया गया था, एक तिहाई पाइराइट्स से। कच्चे माल के संतुलन में एक महत्वपूर्ण स्थान अलौह धातु विज्ञान से ऑफ-गैसों द्वारा कब्जा कर लिया जाता है, जिसमें सल्फर डाइऑक्साइड होता है।

दुनिया भर में पर्यावरण की रक्षा के लिए सल्फर युक्त औद्योगिक कचरे का उपयोग करने के उपाय किए जा रहे हैं। सल्फ्यूरिक एसिड के उत्पादन के लिए उपयोग किए जाने वाले थर्मल पावर प्लांटों और धातुकर्म संयंत्रों की निकास गैसों के साथ वातावरण में बहुत अधिक सल्फर डाइऑक्साइड उत्सर्जित होता है। ऐसी अपशिष्ट गैसों में SO2 की कम सांद्रता के कारण, उनका प्रसंस्करण हमेशा संभव नहीं होता है।

इसी समय, निकास गैसें सबसे सस्ता कच्चा माल हैं, पाइराइट्स के थोक मूल्य भी कम हैं, जबकि सल्फर सबसे महंगा कच्चा माल है। इसलिए, सल्फर से सल्फ्यूरिक एसिड के उत्पादन को आर्थिक रूप से व्यवहार्य बनाने के लिए, एक ऐसी योजना विकसित की जानी चाहिए जिसमें इसके प्रसंस्करण की लागत पाइराइट्स या अपशिष्ट गैसों के प्रसंस्करण की लागत से काफी कम हो।

लक्ष्य उत्पाद की विशेषताएं।

सल्फ्यूरिक एसिड एक स्वतंत्र रासायनिक यौगिक एच 2 एसओ 4 के साथ-साथ पानी एच 2 एसओ 4 * 2 एच 2 ओ, एच 2 एसओ 4 * एच 2 ओ, एच 2 एसओ 4 * 4 एच 2 ओ के साथ यौगिकों के रूप में मौजूद हो सकता है। और सल्फर ट्राइऑक्साइड एच 2 एसओ 4 * एसओ 3, एच 2 एसओ 4 * 2 एसओ 3 के साथ।

प्रौद्योगिकी में, सल्फ्यूरिक एसिड को निर्जल एच 2 एसओ 4 और इसके जलीय घोल भी कहा जाता है (वास्तव में, यह एच 2 ओ, एसओ 2 और एच 2 एसओ 4 * एनएच 2 ओ यौगिकों का मिश्रण है) और निर्जल में सल्फर ट्राइऑक्साइड के समाधान एच 2 एसओ 4 - ओलियम (एच 2 एसओ 4 और यौगिकों एच 2 एसओ 4 * एनएसओ 3) का मिश्रण।

निर्जल सल्फ्यूरिक एसिड एक भारी, तैलीय, रंगहीन तरल है, जो किसी भी अनुपात में पानी और सल्फर ट्राइऑक्साइड के साथ गलत है। सल्फ्यूरिक एसिड के भौतिक गुण, जैसे घनत्व, क्रिस्टलीकरण तापमान, क्वथनांक, इसकी संरचना पर निर्भर करते हैं।

निर्जल 100% एसिड में अपेक्षाकृत उच्च क्रिस्टलीकरण तापमान 10.7 * C होता है। परिवहन और भंडारण के दौरान एक वाणिज्यिक उत्पाद के जमने की संभावना को कम करने के लिए, तकनीकी सल्फ्यूरिक एसिड की एकाग्रता को इस तरह चुना जाता है कि इसमें पर्याप्त रूप से कम क्रिस्टलीकरण तापमान हो। उद्योग तीन प्रकार के वाणिज्यिक सल्फ्यूरिक एसिड का उत्पादन करता है।

सल्फ्यूरिक एसिड और पानी अधिकतम क्वथनांक (336.5 * C) के साथ 98.3% H 2 SO 4 और 1.7% H 2 O का एज़ोट्रोपिक मिश्रण बनाते हैं। एज़ोट्रोपिक एकाग्रता के एसिड के लिए संतुलन में तरल और वाष्प चरणों की संरचना समान होती है; अधिक तनु अम्ल विलयनों में, वाष्प चरण में जल वाष्प प्रबल होता है; वाष्प चरण में, SO3 की संतुलन सांद्रता ओलियम से अधिक होती है।

सल्फ्यूरिक एसिड बहुत सक्रिय है। यह धातु के आक्साइड और सबसे शुद्ध धातुओं को घोलता है, ऊंचे तापमान पर लवण से अन्य सभी एसिड को विस्थापित करता है। विशेष रूप से लालच से सल्फ्यूरिक एसिड हाइड्रेट देने की क्षमता के कारण पानी के साथ जुड़ जाता है। यह अन्य अम्लों से, लवण के क्रिस्टल हाइड्रेट्स और यहां तक कि हाइड्रोकार्बन के ऑक्सीजन डेरिवेटिव से भी पानी लेता है, जिसमें पानी नहीं होता है, लेकिन एच: ओ = 2 के संयोजन में हाइड्रोजन और ऑक्सीजन होता है। लकड़ी और अन्य पौधे और जानवरों के ऊतक जिनमें सेल्यूलोज (सी 6 एच 10 ओ 5), स्टार्च और चीनी केंद्रित सल्फ्यूरिक एसिड में नष्ट हो जाते हैं; पानी अम्ल से बंध जाता है और ऊतक से केवल सूक्ष्म रूप से परिक्षिप्त कार्बन ही बचता है। तनु अम्ल में, सेल्युलोज और स्टार्च शर्करा बनाने के लिए टूट जाते हैं। यदि यह मानव त्वचा के संपर्क में आता है, तो केंद्रित सल्फ्यूरिक एसिड जलने का कारण बनता है।

प्रक्रिया की रासायनिक योजना

1. सल्फर जलना।

एस + ओ 2 \u003d एसओ 2 (1)

रोस्टिंग गैस में सल्फर डाइऑक्साइड की सांद्रता सल्फर और दहन के लिए आपूर्ति की गई हवा के अनुपात पर निर्भर करती है। यदि हवा को स्टोइकोमेट्रिक मात्रा में लिया जाता है, अर्थात। सल्फर के प्रत्येक मोल के लिए, ऑक्सीजन का 1 मोल, फिर सल्फर के पूर्ण दहन के साथ, सांद्रता हवा में ऑक्सीजन के आयतन अंश के बराबर होगी C so2.max = 21%। हालांकि, हवा आमतौर पर अधिक मात्रा में ली जाती है, अन्यथा भट्ठी का तापमान बहुत अधिक होगा।

सल्फर के रुद्धोष्म दहन के साथ, स्टोइकोमेट्रिक संरचना के प्रतिक्रिया मिश्रण के लिए फायरिंग तापमान ~ 1500*C होगा। व्यावहारिक रूप से, भट्ठी में तापमान बढ़ने की संभावना इस तथ्य से सीमित है कि 1300*C से ऊपर भट्ठी और गैस नलिकाओं की परत जल्दी नष्ट हो जाती है। आमतौर पर, सल्फर को जलाने पर, 13 - 14% SO 2 युक्त एक रोस्टिंग गैस प्राप्त होती है।

2. SO 2 . का संपर्क ऑक्सीकरण में एसओ 3

यह सबसे अधिक अध्ययन किए गए उत्प्रेरक संश्लेषणों में से एक है। यूएसएसआर में, एसओ 2 से एसओ 3 के ऑक्सीकरण के अध्ययन और उत्प्रेरक के विकास पर सबसे गहन काम जी.के. बोर्सकोव। सल्फर डाइऑक्साइड ऑक्सीकरण प्रतिक्रिया

एसओ 2 + 0.5 ओ 2 \u003d एसओ 3 (2)

3. सल्फर ट्राइऑक्साइड का अवशोषण।

सल्फ्यूरिक एसिड के उत्पादन के लिए संपर्क प्रक्रिया में अंतिम चरण गैस मिश्रण से सल्फर ट्राइऑक्साइड का अवशोषण और इसे सल्फ्यूरिक एसिड में परिवर्तित करना है।

एनएसओ 3 + एच 2 ओ \u003d एच 2 एसओ 4 + (n-1)SO 3 +Q………(3)

यदि n>1, तो ओलियम प्राप्त होता है (H2SO4 में SO3 का विलयन)

यदि n=1, तो एक मोनोहाइड्रेट प्राप्त होता है (98.3% H2SO4)

अगर नहीं<1, то получается разбавленная серная кислота

अवशोषण के चरण को पूरा करने के लिए एक शोषक और शर्तों का चयन करते समय, गैस चरण से SO 3 का लगभग 100% निष्कर्षण सुनिश्चित करना आवश्यक है। SO3 के पूर्ण निष्कर्षण के लिए, यह आवश्यक है कि विलायक के ऊपर SO 2 का संतुलन आंशिक दबाव नगण्य हो, क्योंकि इस मामले में अवशोषण प्रक्रिया की प्रेरक शक्ति बड़ी होगी। हालाँकि, ऐसे समाधानों का उपयोग शोषक के रूप में नहीं किया जा सकता है, जिसकी सतह के ऊपर जल वाष्प का संतुलन आंशिक दबाव अधिक होता है। इस मामले में, अभी तक भंग नहीं SO 3 अणु गैस चरण में पानी के अणुओं के साथ सल्फ्यूरिक एसिड वाष्प बनाने के लिए प्रतिक्रिया करेंगे और एक अक्रिय गैसीय माध्यम - नाइट्रोजन, यानी नाइट्रोजन में छितरी हुई सल्फ्यूरिक एसिड की छोटी बूंदों के गठन के साथ मात्रा में जल्दी से संघनित होंगे। सल्फ्यूरिक एसिड धुंध के गठन के साथ:

एसओ 3 (जी) + एच 2 ओ (जी) एच 2 एसओ 4 (जी) एच 2 एसओ 4 (कोहरा); प्रश्न> 0

कोहरे को पारंपरिक अवशोषण उपकरण में खराब तरीके से पकड़ लिया जाता है और मुख्य रूप से पर्यावरण को प्रदूषित करते हुए और सल्फ्यूरिक एसिड के नुकसान को बढ़ाते हुए, निकास गैसों के साथ वातावरण में ले जाया जाता है।

उपरोक्त विचार एक शोषक चुनने के मुद्दे को हल करना संभव बनाते हैं। इष्टतम शोषक 98.3% सल्फ्यूरिक एसिड (तकनीकी नाम - मोनोहाइड्रेट) है, जो एज़ोट्रोपिक संरचना के अनुरूप है। वास्तव में, इस अम्ल के ऊपर व्यावहारिक रूप से कोई जल वाष्प या SO 3 वाष्प नहीं होता है। इस मामले में होने वाली प्रक्रिया को प्रतिक्रिया समीकरण द्वारा सशर्त रूप से वर्णित किया जा सकता है:

एसओ 3 + एनएच 2 एसओ 4 + एच 2 ओ \u003d (एन + 1) एच 2 एसओ 4

एक शोषक के रूप में कम केंद्रित सल्फ्यूरिक एसिड के उपयोग से सल्फ्यूरिक एसिड कोहरे का निर्माण हो सकता है, और वाष्प चरण में 100% से अधिक सल्फ्यूरिक एसिड या ओलियम, SO 3 का संतुलन आंशिक दबाव काफी अधिक होता है, इसलिए यह पूरी तरह से नहीं होगा को अवशोषित। हालांकि, अगर ओलियम को प्रक्रिया के उत्पादों में से एक के रूप में प्राप्त किया जाना है, तो ओलियम (पहला अवशोषक) के साथ अवशोषण और 98.3% एसिड (द्वितीय अवशोषक) के साथ अवशोषण को जोड़ा जा सकता है।

सिद्धांत रूप में, 98.3% से अधिक एसिड के उच्च तापमान पर, एसिड का आंशिक वाष्प दबाव स्वयं महत्वपूर्ण हो सकता है, जो SO 3 के अवशोषण की डिग्री को भी कम कर देगा। 100*C से नीचे, H 2 SO 4 का संतुलन वाष्प दाब बहुत कम है और इसलिए लगभग 100% अवशोषण प्राप्त किया जा सकता है।

इस प्रकार, अवशोषण की एक उच्च डिग्री सुनिश्चित करने के लिए, अवशोषक में सल्फ्यूरिक एसिड की एकाग्रता को 98.3% के करीब बनाए रखा जाना चाहिए, और तापमान 100 * C से नीचे होना चाहिए। हालाँकि, SO3 के अवशोषण की प्रक्रिया में, अम्ल स्थिर होता है (इसकी सांद्रता बढ़ जाती है) और, प्रतिक्रिया की ऊष्माक्षेपीता के कारण, तापमान बढ़ जाता है। इन घटनाओं के निरोधात्मक प्रभाव को कम करने के लिए, अवशोषण किया जाता है ताकि अवशोषक के एकल मार्ग के दौरान एच 2 एसओ 4 की एकाग्रता केवल 1-1.5% बढ़ जाए, निश्चित सल्फ्यूरिक एसिड कलेक्टर में एकाग्रता में पतला होता है। 98.3%, एक बाहरी रेफ्रिजरेटर में ठंडा किया गया और अवशोषण के लिए फिर से परोसा गया, एक उच्च परिसंचरण दर प्रदान करता है।

गणना के लिए कार्य

विकल्प संख्या 3

सल्फ्यूरिक एसिड उत्पादन कदम:

1. कच्चे माल की तैयारी : सल्फर की शुद्धि और पिघलने; सफाई, सुखाने और हवा की खुराक;

2. सल्फर बर्निंग : एस + ओ 2 \u003d एसओ 2 (1)। प्रक्रिया अतिरिक्त हवा के साथ की जाती है;

3. संपर्क ऑक्सीकरण SO2 में एसओ 3: SO 2 + 0.5O 2 \u003d SO 3 (2)। प्रक्रिया वैनेडियम उत्प्रेरक पर 420-550 * C के तापमान पर होती है;

4. अवशोषण एसओ 3 : एसओ 3 + एच 2 ओ \u003d एच 2 एसओ 4 (3)। अवशोषण कॉलम 98.3% एच 2 एसओ 4 के साथ रिफ्लक्स किया जाता है। गोदाम में भेजे जाने से पहले, एसिड को GOST की आवश्यकताओं के अनुसार ~93% H 2 SO 4 तक पतला किया जाता है।

गणना के लिए प्रारंभिक डेटा

गणना करते हुए।

1. हम उत्पादन का एक फ़्लोचार्ट बनाते हैं।

गंधक

वायु

011 - तरल सल्फर

012 - वायु

12 - SO 2 सामग्री। गैस

23 - SO 3 सामग्री। गैस

301 - निकास गैसें

302 - सल्फ्यूरिक अम्ल

2. प्रत्येक नोड के लिए समीकरण बनाना।

1. हम पहले नोड के लिए समीकरण बनाते हैं:

0.92*N 011 =N 12 SO2

एन 12 एसओ2 \u003d एन 12 * 0.08 एन 011 \u003d एक्स 1

0.92*N011=N12 *0.08N12=X3

0.92*X 1 =X 3 *0.08 (1)

2 . हम दूसरे नोड के लिए समीकरण बनाते हैं:

ए) 0.99 * एन 12 एसओ2 \u003d एन 23 एसओ3

0.99*N 12 *0.08=N 23 SO3 N 23 SO3 =X 4

0.99*X 3 *0.08=X 4 (2)

बी) एन 12 *(0.21-0.08)=2एन 23 एसओ3

एक्स*(0.21-0.08)=2X 4 (3)

3 .तीसरे नोड के लिए समीकरण लिखें:

क) जी 302 *0.925=2000 मूल समीकरण जी 302 =X 7

एक्स 7 *0.925=2000 (4)

बी) 0.998 * एन 23 एसओ3 \u003d 2000 / श्री (एच 2 एसओ 4)

0.998*X 4 =2000/98 (5)

ग) एन 301 \u003d एन 301 एसओ2 + एन 301 एन2 + एन 301 एसओ3 + एन 301 ओ2

एन 301 SO2 =N 12 SO2 *(1-0.99)=N 12 SO2 *0.01=N 12 *0.08*0.01

एन 301 एन2 = 0.79*एन 012

एन 301 SO3 =N 23 SO3 *(1-0.998)=0.002*N 23 SO3

एन 301 ओ 2 \u003d एन 12 * (0.21-0.08) -1/2 * एन 12 * (0.21-0.08) \u003d एन 12 * 0.13 * (1-

1/2) = 0.13/2*एन 12

एन 301 =एन 12 *0.08*0.01+0.79*एन 012 +0.002*एन 23 SO3 +0.065*N 12

एन 301 \u003d 0.0658 * एन 12 + 0.79 * एन 012 + 0.002 * एन 23 एसओ3

एक्स 6 = 0.0658 * एक्स 3 +0.79 * एक्स 2 +0.002 * एक्स 1 (6)

लेकिन हमें इस बात का ध्यान रखना चाहिए कि N 12 \u003d N 012, यानी। एक्स 2 \u003d एक्स 3 (7)

6 अज्ञात और 7 समीकरण। समीकरण (3) को हटा दें और समीकरणों की प्रणाली प्राप्त करें:

0.92*X 1 = 0.08*X 3

0.99*0.08*X3=X4

0.998*X4=20.41

एक्स 6 = 0.0658 * एक्स 3 +0.79 * एक्स 2 +0.002 * एक्स 4

0.92*X 1 -0.08*X 3 =0

0.0792*एक्स 3-एक्स 4 =0

0.8558*एक्स 3 +0.002*एक्स 4 - एक्स 6 =0

0.92*X 1 -0.08*X 3 =0

0.0792*X 3 -20.45=0

0.8558*X 3 +0.002*20.45-X 6 =0

0.92*X 1 -0.08*X 3 =0

0.8558*एक्स 3 +0.041-एक्स 6 =0

0.92*X 1=0.08*257.23

0.8558*257.23+0.041-एक्स 6 =0

एक्स 1 \u003d 22.37 \u003d एन 011

एक्स 3 \u003d 257.23 \u003d एक्स 2 \u003d एन 12 \u003d एन 012

एक्स 7 \u003d 2162.2 \u003d जी 301

एक्स 4 \u003d 20.45 \u003d एन 23 SO3

एक्स 6 \u003d 220.18 \u003d एन 301

1. लक्ष्य उत्पाद की मात्रा:

एक्स 7 \u003d जी 301 \u003d 2162.2 किग्रा 92.5% सल्फ्यूरिक एसिड

2. सल्फर की खपत:

एक्स 1 \u003d एन 011 \u003d 22.37 किमी

एम एस =एन एस *एम एस =22.37*32=715.84 किलो

जी एस प्रारंभिक =715.84/0.92=778.1 किलो प्रणाली में पेश किया गया था

3. वायु प्रवाह:

एक्स 2 \u003d एक्स 3 \u003d एन 012 \u003d 257.23 किमी

जी वायु \u003d एन वायु * एम वायु \u003d 257.23 * 29 \u003d 7459.67 किग्रा

4. ऑक्सीजन और नाइट्रोजन की खपत का निर्धारण

जी ओ 2 \u003d 7459.67 * 0.21 \u003d 1566.7 किग्रा

जी एन 2 \u003d 7459.67 * 0.79 \u003d 5893.1 किग्रा

5. गैस में निहित SO2 की मात्रा निर्धारित करें:

एक्स 3 \u003d एन 12 \u003d 257.23 किमी

एन 12 SO2 \u003d 257.23 * 0.08 \u003d 20.58 किमी

जी SO2 =N SO2 *M SO2 =20.58*64=1317 किग्रा

6. गैस में निहित SO 3 का निर्धारण:

एक्स 4 \u003d एन 23 एसओ3 \u003d 20.45 किमी

जी SO3 =N SO3 *M SO3 =20.45*80=1636 किग्रा

7. अवशोषण के लिए पानी की खपत:

जी 03 \u003d जी 301 * एम एच 2 ओ / एम एच 2 एसओ 4 \u003d 2162.2 * 18/98 \u003d 397 किलो

8. ट्रैफ़िक का धुआं:

एक्स 6 \u003d एन 301 \u003d 220.18 किमी

जी 301 \u003d जी 301 एसओ2 + जी 301 एन2 + जी 301 एसओ3 + जी 301 ओ 2 \u003d 1317 * 0.01 + 5893.1 +

0.002*1636+0.065*7459.67=13.17+5893.1+3.27+484.88=

3. सामग्री संतुलन।

*शुरू की*			*प्राप्त हुआ*
*अभिकर्मकों*	*किलोग्राम*	*% द्रव्यमान*	*उत्पादों*	*किलोग्राम*	*%द्रव्यमान*
गंधक	778,1	9	गंधक का तेजाब:	2162,2	25
पानी	397	4,6	H2SO4	2000	23,2
हवा:	7459,67	86,4	H2O	162,2	1,8
21% हे 2	1566,7	18,1	ट्रैफ़िक का धुआं:	6394,42	74,1
79% एन 2	5893,1	69,3	SO2	13,17	0,15
एन 2	5893,1	68,25
एसओ 3	3,27	0,06
O2	484,88	5,64
विसंगति	78,15	0,9
कुल	8634,77	100	कुल	8634,77	100

ग्रंथ सूची।

1. जी.एन. कोनोनोवा, वी.वी. सफोनोव, एन.जी. चरवाहा। एक एल्गोरिथम का विकास और एक रासायनिक-तकनीकी प्रणाली के भौतिक संतुलन की गणना। मास्को। 1995.

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3 AM। कुटेपोव, टी.आई. बोंदरेवा, एम.जी. बेरेनगार्टन। सामान्य रासायनिक प्रौद्योगिकी। दूसरा संस्करण, सुधारा और बड़ा किया गया। मास्को "हाई स्कूल" 1990।

4. व्याख्यान नोट्स (व्याख्याता: जी.एन. कोनोनोवा)

सल्फर एक रासायनिक तत्व है जो आवर्त सारणी के छठे समूह और तीसरे आवर्त में है। इस लेख में, हम इसके रासायनिक और उत्पादन, उपयोग, आदि पर एक विस्तृत नज़र डालेंगे। भौतिक विशेषताओं में रंग, विद्युत चालकता स्तर, सल्फर क्वथनांक आदि जैसी विशेषताएं शामिल हैं। रासायनिक अन्य पदार्थों के साथ इसकी बातचीत का वर्णन करता है।

भौतिकी के संदर्भ में सल्फर

यह एक नाजुक पदार्थ है। सामान्य परिस्थितियों में, यह एकत्रीकरण की एक ठोस स्थिति में है। सल्फर में नींबू पीला रंग होता है।

और अधिकांश भाग के लिए, इसके सभी यौगिकों में पीले रंग के टिंट होते हैं। पानी में नहीं घुलता। इसमें कम तापीय और विद्युत चालकता है। ये विशेषताएं इसे एक विशिष्ट गैर-धातु के रूप में चिह्नित करती हैं। इस तथ्य के बावजूद कि सल्फर की रासायनिक संरचना बिल्कुल भी जटिल नहीं है, इस पदार्थ के कई रूप हो सकते हैं। यह सब क्रिस्टल जाली की संरचना पर निर्भर करता है, जिसकी मदद से परमाणु जुड़े होते हैं, लेकिन वे अणु नहीं बनाते हैं।

तो, पहला विकल्प समचतुर्भुज सल्फर है। वह सबसे स्थिर है। इस प्रकार के सल्फर का क्वथनांक चार सौ पैंतालीस डिग्री सेल्सियस होता है। लेकिन किसी दिए गए पदार्थ को एकत्रीकरण की गैसीय अवस्था में जाने के लिए, उसे पहले एक तरल अवस्था से गुजरना होगा। तो, सल्फर का पिघलना एक सौ तेरह डिग्री सेल्सियस के तापमान पर होता है।

दूसरा विकल्प मोनोक्लिनिक सल्फर है। यह गहरे पीले रंग के साथ एक सुई के आकार का क्रिस्टल है। पहले प्रकार के सल्फर के पिघलने और फिर इसके धीमी गति से ठंडा होने से इस प्रकार का निर्माण होता है। इस किस्म में लगभग समान भौतिक विशेषताएं हैं। उदाहरण के लिए, इस प्रकार के सल्फर का क्वथनांक अभी भी वही चार सौ पैंतालीस डिग्री है। इसके अलावा, प्लास्टिक के रूप में इस पदार्थ की एक ऐसी विविधता है। यह ठंडे पानी में डालने से प्राप्त होता है जिसे लगभग उबालने के लिए गर्म किया जाता है। इस प्रकार के सल्फर का क्वथनांक समान होता है। लेकिन पदार्थ में रबर की तरह खींचने का गुण होता है।

भौतिक विशेषता का एक अन्य घटक जिसके बारे में मैं बात करना चाहूंगा वह है सल्फर का प्रज्वलन तापमान।

यह सूचक सामग्री के प्रकार और इसकी उत्पत्ति के आधार पर भिन्न हो सकता है। उदाहरण के लिए, तकनीकी सल्फर का प्रज्वलन तापमान एक सौ नब्बे डिग्री है। यह काफी कम आंकड़ा है। अन्य मामलों में, सल्फर का फ्लैश प्वाइंट दो सौ अड़तालीस डिग्री और यहां तक कि दो सौ छप्पन भी हो सकता है। यह सब इस बात पर निर्भर करता है कि इसका खनन किस सामग्री से किया गया था, इसका घनत्व क्या है। लेकिन हम यह निष्कर्ष निकाल सकते हैं कि सल्फर का दहन तापमान अन्य रासायनिक तत्वों की तुलना में काफी कम है, यह एक ज्वलनशील पदार्थ है। इसके अलावा, कभी-कभी सल्फर आठ, छह, चार या दो परमाणुओं वाले अणुओं में संयोजित हो सकता है। अब, भौतिकी के दृष्टिकोण से सल्फर पर विचार करने के बाद, अगले भाग पर चलते हैं।

सल्फर का रासायनिक लक्षण वर्णन

इस तत्व का परमाणु द्रव्यमान अपेक्षाकृत कम है, यह बत्तीस ग्राम प्रति तिल के बराबर है। सल्फर तत्व की विशेषता में इस पदार्थ की ऐसी विशेषता शामिल है जिसमें ऑक्सीकरण की विभिन्न डिग्री होने की क्षमता है। इसमें यह हाइड्रोजन या ऑक्सीजन से भिन्न है। सल्फर तत्व की रासायनिक विशेषता क्या है, इस प्रश्न को ध्यान में रखते हुए, यह उल्लेख करना असंभव नहीं है कि, परिस्थितियों के आधार पर, यह दोनों को कम करने और ऑक्सीकरण करने वाले गुणों को प्रदर्शित करता है। तो, क्रम में, विभिन्न रासायनिक यौगिकों के साथ दिए गए पदार्थ की बातचीत पर विचार करें।

सल्फर और सरल पदार्थ

साधारण पदार्थ ऐसे पदार्थ होते हैं जिनमें केवल एक रासायनिक तत्व होता है। इसके परमाणु अणुओं में संयोजित हो सकते हैं, उदाहरण के लिए, ऑक्सीजन के मामले में, या वे संयोजित नहीं हो सकते हैं, जैसा कि धातुओं के मामले में होता है। तो, सल्फर धातुओं, अन्य अधातुओं और हैलोजन के साथ प्रतिक्रिया कर सकता है।

धातुओं के साथ बातचीत

इस तरह की प्रक्रिया को अंजाम देने के लिए उच्च तापमान की आवश्यकता होती है। इन शर्तों के तहत, एक अतिरिक्त प्रतिक्रिया होती है। अर्थात्, धातु के परमाणु सल्फर परमाणुओं के साथ मिलकर जटिल पदार्थ सल्फाइड बनाते हैं। उदाहरण के लिए, यदि आप दो मोल पोटैशियम को एक मोल सल्फर के साथ मिलाकर गर्म करते हैं, तो आपको इस धातु के सल्फाइड का एक मोल मिलता है। समीकरण को निम्नलिखित रूप में लिखा जा सकता है: 2K + S = K 2 S।

ऑक्सीजन के साथ प्रतिक्रिया

यह सल्फर बर्निंग है। इस प्रक्रिया के परिणामस्वरूप, इसका ऑक्साइड बनता है। उत्तरार्द्ध दो प्रकार का हो सकता है। इसलिए, सल्फर का दहन दो चरणों में हो सकता है। पहला तब होता है जब एक मोल सल्फर और एक मोल ऑक्सीजन एक मोल सल्फर डाइऑक्साइड बनाते हैं। आप इस रासायनिक प्रतिक्रिया के लिए समीकरण इस प्रकार लिख सकते हैं: S + O 2 \u003d SO 2। दूसरा चरण डाइऑक्साइड में एक और ऑक्सीजन परमाणु का जोड़ है। ऐसा तब होता है जब आप उच्च तापमान पर दो मोल में एक मोल ऑक्सीजन मिलाते हैं। परिणाम सल्फर ट्राइऑक्साइड के दो मोल है। इस रासायनिक संपर्क के लिए समीकरण इस तरह दिखता है: 2SO 2 + O 2 = 2SO 3। इस प्रतिक्रिया के परिणामस्वरूप सल्फ्यूरिक एसिड बनता है। तो, वर्णित दो प्रक्रियाओं को पूरा करके, परिणामी ट्राइऑक्साइड को जल वाष्प के एक जेट के माध्यम से पारित करना संभव है। और हमें मिलता है इस तरह की प्रतिक्रिया के लिए समीकरण निम्नानुसार लिखा गया है: SO 3 + H 2 O \u003d H 2 SO 4।

हलोजन के साथ बातचीत

अन्य गैर-धातुओं की तरह रासायनिक, इसे पदार्थों के इस समूह के साथ प्रतिक्रिया करने की अनुमति देता है। इसमें फ्लोरीन, ब्रोमीन, क्लोरीन, आयोडीन जैसे यौगिक शामिल हैं। सल्फर उनमें से किसी के साथ प्रतिक्रिया करता है, अंतिम को छोड़कर। एक उदाहरण के रूप में, हम उस आवर्त सारणी के तत्व के फ्लोरीनेशन की प्रक्रिया का हवाला दे सकते हैं जिस पर हम विचार कर रहे हैं। उल्लिखित अधातु को हैलोजन से गर्म करने पर फ्लोराइड के दो प्रकार प्राप्त किए जा सकते हैं। पहला मामला: यदि हम एक मोल सल्फर और तीन मोल फ्लोरीन लेते हैं, तो हमें फ्लोराइड का एक मोल मिलता है, जिसका सूत्र SF 6 है। समीकरण इस तरह दिखता है: एस + 3 एफ 2 = एसएफ 6। इसके अलावा, एक दूसरा विकल्प है: यदि हम एक मोल सल्फर और दो मोल फ्लोरीन लेते हैं, तो हमें रासायनिक सूत्र SF 4 के साथ फ्लोराइड का एक मोल मिलता है। समीकरण निम्नलिखित रूप में लिखा गया है: S + 2F 2 = SF 4। जैसा कि आप देख सकते हैं, यह सब उस अनुपात पर निर्भर करता है जिसमें घटक मिश्रित होते हैं। ठीक उसी तरह, सल्फर के क्लोरीनीकरण की प्रक्रिया (दो अलग-अलग पदार्थ भी बन सकते हैं) या ब्रोमिनेशन को अंजाम देना संभव है।

अन्य सरल पदार्थों के साथ बातचीत

सल्फर तत्व की विशेषता यहीं समाप्त नहीं होती है। पदार्थ हाइड्रोजन, फास्फोरस और कार्बन के साथ रासायनिक प्रतिक्रिया में भी प्रवेश कर सकता है। हाइड्रोजन के साथ परस्पर क्रिया के कारण सल्फाइड अम्ल बनता है। धातुओं के साथ इसकी प्रतिक्रिया के परिणामस्वरूप, उनके सल्फाइड प्राप्त किए जा सकते हैं, जो बदले में, उसी धातु के साथ सल्फर की सीधी प्रतिक्रिया से भी प्राप्त होते हैं। सल्फर परमाणुओं में हाइड्रोजन परमाणुओं का योग अत्यधिक उच्च तापमान की स्थितियों में ही होता है। जब सल्फर फास्फोरस के साथ प्रतिक्रिया करता है, तो इसका फॉस्फाइड बनता है। इसका निम्न सूत्र है: P 2 S 3. इस पदार्थ का एक मोल प्राप्त करने के लिए, आपको दो मोल फॉस्फोरस और तीन मोल सल्फर लेने की आवश्यकता है। जब सल्फर कार्बन के साथ परस्पर क्रिया करता है, तो गैर-धातु का कार्बाइड बनता है। इसका रासायनिक सूत्र इस तरह दिखता है: CS 2. इस पदार्थ का एक मोल प्राप्त करने के लिए, आपको एक मोल कार्बन और दो मोल सल्फर लेने की आवश्यकता है। ऊपर वर्णित सभी जोड़ प्रतिक्रियाएं तभी होती हैं जब अभिकारकों को उच्च तापमान पर गर्म किया जाता है। हमने सरल पदार्थों के साथ सल्फर की परस्पर क्रिया पर विचार किया है, अब अगले बिंदु पर चलते हैं।

सल्फर और जटिल यौगिक

यौगिक वे पदार्थ होते हैं जिनके अणुओं में दो (या अधिक) विभिन्न तत्व होते हैं। सल्फर के रासायनिक गुण इसे क्षार जैसे यौगिकों के साथ-साथ केंद्रित सल्फेट एसिड के साथ प्रतिक्रिया करने की अनुमति देते हैं। इन पदार्थों के साथ इसकी प्रतिक्रियाएं काफी अजीब हैं। सबसे पहले, विचार करें कि क्या होता है जब प्रश्न में अधातु को क्षार के साथ मिलाया जाता है। उदाहरण के लिए, यदि आप छह मोल लेते हैं और उनमें तीन मोल सल्फर मिलाते हैं, तो आपको पोटेशियम सल्फाइड के दो मोल, दिए गए धातु सल्फाइट का एक मोल और तीन मोल पानी मिलता है। इस तरह की प्रतिक्रिया को निम्नलिखित समीकरण द्वारा व्यक्त किया जा सकता है: 6KOH + 3S \u003d 2K 2 S + K2SO 3 + 3H 2 O। उसी सिद्धांत से, यदि आप अगला जोड़ते हैं, तो बातचीत होती है, एक केंद्रित समाधान होने पर सल्फर के व्यवहार पर विचार करें। इसमें सल्फेट एसिड मिलाया जाता है। यदि हम पहले पदार्थ का एक मोल और दूसरे पदार्थ का दो मोल लेते हैं, तो हमें निम्नलिखित उत्पाद मिलते हैं: सल्फर ट्राइऑक्साइड तीन मोल की मात्रा में, और पानी भी - दो मोल। यह रासायनिक प्रतिक्रिया तभी हो सकती है जब अभिकारकों को उच्च तापमान पर गर्म किया जाता है।

माना अधातु प्राप्त करना

कई मुख्य तरीके हैं जिनके द्वारा विभिन्न पदार्थों से सल्फर निकाला जा सकता है। पहली विधि इसे पाइराइट से अलग करना है। उत्तरार्द्ध का रासायनिक सूत्र FeS 2 है। जब इस पदार्थ को ऑक्सीजन की पहुंच के बिना उच्च तापमान पर गर्म किया जाता है, तो एक और लौह सल्फाइड - FeS - और सल्फर प्राप्त किया जा सकता है। प्रतिक्रिया समीकरण निम्नानुसार लिखा गया है: FeS 2 \u003d FeS + S। सल्फर प्राप्त करने की दूसरी विधि, जिसका उपयोग अक्सर उद्योग में किया जाता है, ऑक्सीजन की थोड़ी मात्रा की स्थिति में सल्फर सल्फाइड का दहन है। इस मामले में, आप अधातु और पानी माना जा सकता है। प्रतिक्रिया करने के लिए, आपको घटकों को दो से एक के दाढ़ अनुपात में लेना होगा। नतीजतन, हमें दो से दो के अनुपात में अंतिम उत्पाद मिलते हैं। इस रासायनिक प्रतिक्रिया के लिए समीकरण निम्नानुसार लिखा जा सकता है: 2H 2 S + O 2 \u003d 2S + 2H 2 O। इसके अलावा, विभिन्न धातुकर्म प्रक्रियाओं के दौरान सल्फर प्राप्त किया जा सकता है, उदाहरण के लिए, निकल जैसे धातुओं के उत्पादन में, तांबा और अन्य।

औद्योगिक उपयोग

जिस गैर-धातु पर हम विचार कर रहे हैं, उसे रासायनिक उद्योग में इसका व्यापक अनुप्रयोग मिला है। जैसा कि ऊपर उल्लेख किया गया है, यहाँ इसका उपयोग सल्फेट एसिड प्राप्त करने के लिए किया जाता है। इसके अलावा, सल्फर का उपयोग माचिस के निर्माण के लिए एक घटक के रूप में किया जाता है, क्योंकि यह एक ज्वलनशील पदार्थ है। यह विस्फोटक, बारूद, फुलझड़ियाँ आदि के उत्पादन में भी अपरिहार्य है। इसके अलावा, सल्फर का उपयोग कीट नियंत्रण उत्पादों में एक सामग्री के रूप में किया जाता है। चिकित्सा में, इसका उपयोग त्वचा रोगों के लिए दवाओं के निर्माण में एक घटक के रूप में किया जाता है। साथ ही, विचाराधीन पदार्थ का उपयोग विभिन्न रंगों के उत्पादन में किया जाता है। इसके अलावा, इसका उपयोग फास्फोरस के निर्माण में किया जाता है।

सल्फर की इलेक्ट्रॉनिक संरचना

जैसा कि आप जानते हैं, सभी परमाणुओं में एक नाभिक होता है, जिसमें प्रोटॉन होते हैं - धनात्मक आवेशित कण - और न्यूट्रॉन, अर्थात कण जिनका आवेश शून्य होता है। इलेक्ट्रॉन नाभिक के चारों ओर ऋणात्मक आवेश के साथ चक्कर लगाते हैं। एक परमाणु के तटस्थ होने के लिए, इसकी संरचना में समान संख्या में प्रोटॉन और इलेक्ट्रॉन होने चाहिए। यदि उत्तरार्द्ध अधिक हैं, तो यह पहले से ही एक नकारात्मक आयन है - एक आयन। यदि, इसके विपरीत, प्रोटॉन की संख्या इलेक्ट्रॉनों की संख्या से अधिक है, तो यह एक सकारात्मक आयन या धनायन है। सल्फर आयन एक एसिड अवशेष के रूप में कार्य कर सकता है। यह सल्फाइड एसिड (हाइड्रोजन सल्फाइड) और धातु सल्फाइड जैसे पदार्थों के अणुओं का हिस्सा है। इलेक्ट्रोलाइटिक पृथक्करण के दौरान एक आयन बनता है, जो तब होता है जब कोई पदार्थ पानी में घुल जाता है। इस मामले में, अणु एक धनायन में विघटित हो जाता है, जिसे धातु या हाइड्रोजन आयन के साथ-साथ एक धनायन - एक एसिड अवशेष या एक हाइड्रॉक्सिल समूह (OH-) का एक आयन के रूप में दर्शाया जा सकता है।

चूँकि आवर्त सारणी में सल्फर की क्रम संख्या सोलह है, इसलिए हम यह निष्कर्ष निकाल सकते हैं कि ठीक इसके नाभिक में प्रोटॉनों की संख्या है। इसके आधार पर हम कह सकते हैं कि सोलह इलेक्ट्रॉन भी घूमते हैं। दाढ़ द्रव्यमान से रासायनिक तत्व की क्रम संख्या घटाकर न्यूट्रॉन की संख्या पाई जा सकती है: 32 - 16 \u003d 16. प्रत्येक इलेक्ट्रॉन यादृच्छिक रूप से नहीं, बल्कि एक निश्चित कक्षा के साथ घूमता है। चूँकि सल्फर एक रासायनिक तत्व है जो आवर्त सारणी के तीसरे आवर्त से संबंधित है, नाभिक के चारों ओर तीन परिक्रमाएँ होती हैं। पहले वाले में दो इलेक्ट्रॉन होते हैं, दूसरे में आठ और तीसरे में छह होते हैं। सल्फर परमाणु का इलेक्ट्रॉनिक सूत्र इस प्रकार लिखा गया है: 1s2 2s2 2p6 3s2 3p4।

प्रकृति में व्यापकता

मूल रूप से माना गया रासायनिक तत्व खनिजों की संरचना में पाया जाता है, जो विभिन्न धातुओं के सल्फाइड होते हैं। सबसे पहले, यह पाइराइट है - लौह नमक; यह सीसा, चांदी, तांबे की चमक, जस्ता मिश्रण, सिनाबार - पारा सल्फाइड भी है। इसके अलावा, सल्फर को खनिजों की संरचना में भी शामिल किया जा सकता है, जिसकी संरचना तीन या अधिक रासायनिक तत्वों द्वारा दर्शायी जाती है।

उदाहरण के लिए, चाल्कोपीराइट, मिराबिलिट, कीसेराइट, जिप्सम। आप उनमें से प्रत्येक पर अधिक विस्तार से विचार कर सकते हैं। पाइराइट एक फेरम सल्फाइड या FeS 2 है। इसमें सुनहरे रंग की चमक के साथ हल्का पीला रंग होता है। यह खनिज अक्सर लैपिस लाजुली में अशुद्धता के रूप में पाया जा सकता है, जिसका व्यापक रूप से गहने बनाने के लिए उपयोग किया जाता है। यह इस तथ्य के कारण है कि इन दो खनिजों में अक्सर एक सामान्य जमा होता है। तांबे की चमक - चाल्कोसाइट, या चाकोसिन - धातु के समान एक नीला-ग्रे पदार्थ है। और चांदी की चमक (अर्जेंटीना) में समान गुण होते हैं: वे दोनों धातुओं की तरह दिखते हैं, उनका रंग ग्रे होता है। सिनाबार भूरे-लाल रंग का सुस्त खनिज है जिसमें भूरे धब्बे होते हैं। चालकोपीराइट, जिसका रासायनिक सूत्र CuFeS 2 है, सुनहरे पीले रंग का होता है, इसे गोल्डन ब्लेंड भी कहा जाता है। जिंक ब्लेंड (स्फलेराइट) का रंग एम्बर से लेकर उग्र नारंगी तक हो सकता है। मिराबिलाइट - ना 2 SO 4 x10H 2 O - पारदर्शी या सफेद क्रिस्टल। इसे चिकित्सा में भी प्रयोग किया जाता है। कीसेराइट का रासायनिक सूत्र MgSO 4 xH 2 O है। यह सफेद या रंगहीन पाउडर जैसा दिखता है। जिप्सम का रासायनिक सूत्र CaSO 4 x2H 2 O है। इसके अलावा, यह रासायनिक तत्व जीवित जीवों की कोशिकाओं का हिस्सा है और एक महत्वपूर्ण ट्रेस तत्व है।

ओवरपास से कलेक्टर तक एक गर्म पाइपलाइन के माध्यम से शुद्ध सल्फर की आपूर्ति की जाती है। रोस्टिंग कंपार्टमेंट में तरल सल्फर का स्रोत गांठ सल्फर को पिघलाने और छानने की इकाई और रेलवे टैंकों से तरल सल्फर को निकालने और भंडारण के लिए इकाई दोनों हो सकता है। 32 एम 3 की क्षमता वाले एक मध्यवर्ती कलेक्टर के माध्यम से कलेक्टर से, सल्फर को एक रिंग सल्फर पाइपलाइन के माध्यम से बॉयलर इकाई में सूखी हवा की एक धारा में दहन के लिए पंप किया जाता है।

जब सल्फर को जलाया जाता है, तो प्रतिक्रिया द्वारा सल्फर डाइऑक्साइड का निर्माण होता है:

एस (तरल) + ओ 2 (गैस) = एसओ 2 (गैस) + 362.4 केजे।

यह प्रतिक्रिया गर्मी की रिहाई के साथ आगे बढ़ती है।

वायु वातावरण में तरल सल्फर की दहन प्रक्रिया फायरिंग की स्थिति (तापमान, गैस प्रवाह दर), भौतिक और रासायनिक गुणों (इसमें राख और बिटुमिनस अशुद्धियों की उपस्थिति, आदि) पर निर्भर करती है और इसमें अलग-अलग क्रमिक चरण होते हैं:

हवा के साथ तरल सल्फर की बूंदों को मिलाना;

बूंदों का ताप और वाष्पीकरण;

गैस चरण का गठन और गैसीय सल्फर का प्रज्वलन;

गैस चरण में वाष्प का दहन।

ये चरण एक दूसरे से अविभाज्य हैं और एक साथ और समानांतर में आगे बढ़ते हैं। सल्फर डाइऑक्साइड के निर्माण के साथ सल्फर के विसरण दहन की प्रक्रिया होती है, सल्फर डाइऑक्साइड की एक छोटी मात्रा को ट्राइऑक्साइड में ऑक्सीकृत किया जाता है। सल्फर के दहन के दौरान, गैस के तापमान में वृद्धि के साथ, तापमान के अनुपात में SO2 की सांद्रता बढ़ जाती है। जब सल्फर को जलाया जाता है, तो नाइट्रोजन ऑक्साइड भी बनते हैं, जो उत्पादन एसिड को प्रदूषित करते हैं और हानिकारक उत्सर्जन को प्रदूषित कर रहे हैं। बनने वाले नाइट्रोजन ऑक्साइड की मात्रा सल्फर के दहन के तरीके, अतिरिक्त हवा और प्रक्रिया के तापमान पर निर्भर करती है। जैसे-जैसे तापमान बढ़ता है, बनने वाले नाइट्रोजन ऑक्साइड की मात्रा बढ़ती जाती है। अतिरिक्त वायु गुणांक में वृद्धि के साथ, गठित नाइट्रोजन ऑक्साइड की मात्रा बढ़ जाती है, अधिकतम वायु गुणांक 1.20 से 1.25 तक पहुंच जाती है, फिर गिर जाती है।

सल्फर दहन प्रक्रिया को 1200ºC से अधिक के डिजाइन तापमान पर चक्रवात भट्टियों को अतिरिक्त हवा की आपूर्ति के साथ किया जाता है।

जब तरल सल्फर को जलाया जाता है, तो थोड़ी मात्रा में SO3 बनता है। बॉयलर के बाद प्रोसेस गैस में सल्फर डाइऑक्साइड और ट्राईऑक्साइड का कुल आयतन अंश 12.8% तक होता है।

संपर्क तंत्र के सामने गैस वाहिनी में ठंडी सूखी हवा को उड़ाने से, प्रक्रिया गैस को अतिरिक्त रूप से ठंडा किया जाता है और परिचालन मानकों को पतला किया जाता है (सल्फर डाइऑक्साइड और ट्राइऑक्साइड का कुल आयतन अंश 11.0% से अधिक नहीं होता है, तापमान 390 ° C से होता है) 420 डिग्री सेल्सियस)।

तरल सल्फर की आपूर्ति दो सबमर्सिबल पंपों द्वारा दहन इकाई के चक्रवात भट्टियों के नोजल में की जाती है, जिनमें से एक स्टैंडबाय है।

ब्लोअर (एक-कार्यशील, एक-रिजर्व) द्वारा सुखाने वाले टॉवर में हवा को सल्फर जलाने और ऑपरेटिंग मानकों के लिए गैस को पतला करने के लिए इकाई को आपूर्ति की जाती है।

5 से 15 मीटर 3 / घंटा (9 से 27 टी / एच तक) की मात्रा में तरल सल्फर का जलना 110 डिग्री के कोण पर एक दूसरे के सापेक्ष स्थित 2 चक्रवात भट्टियों में किया जाता है। और एक कनेक्टिंग चैंबर द्वारा बॉयलर से जुड़ा हुआ है।

दहन के लिए 135 डिग्री सेल्सियस से 145 डिग्री सेल्सियस के तापमान के साथ तरल फ़िल्टर्ड सल्फर की आपूर्ति की जाती है। प्रत्येक भट्टी में स्टीम जैकेट के साथ सल्फर के लिए 4 नोजल और एक स्टार्टिंग गैस बर्नर होता है।

ऊर्जा तकनीकी बॉयलर के आउटलेट पर गैस का तापमान गर्म बाईपास पर एक थ्रॉटल वाल्व द्वारा नियंत्रित किया जाता है, जो चक्रवात भट्टियों के आफ्टरबर्निंग चैंबर से गैस पास करता है, साथ ही एक ठंडा बाईपास, जो बॉयलर यूनिट के पिछले हिस्से से हवा का हिस्सा गुजरता है। बॉयलर के बाद ग्रिप में।

प्राकृतिक परिसंचरण के साथ जल-ट्यूब ऊर्जा प्रौद्योगिकी इकाई, गैस के लिए सिंगल-पास को सल्फरस गैसों को ठंडा करने के लिए डिज़ाइन किया गया है जब तरल सल्फर को जलाया जाता है और 3.5 से 3.9 एमपीए के दबाव में 420 डिग्री सेल्सियस से 440 डिग्री सेल्सियस के तापमान के साथ सुपरहिट भाप उत्पन्न होती है।

ऊर्जा तकनीकी इकाई में निम्नलिखित मुख्य इकाइयाँ होती हैं: एक इंट्रा-ड्रम डिवाइस के साथ एक ड्रम, एक संवहन बीम के साथ एक बाष्पीकरण उपकरण, एक ट्यूबलर कूल्ड फ्रेम, एक भट्ठी जिसमें दो चक्रवात होते हैं और एक संक्रमण कक्ष, एक पोर्टल, एक फ्रेम होता है। ढोल। पहले चरण के सुपरहीटर और पहले चरण के अर्थशास्त्री को एक दूरस्थ इकाई में संयोजित किया जाता है, दूसरे चरण के सुपरहीटर और दूसरे चरण के अर्थशास्त्री को अलग-अलग दूरस्थ इकाइयों में स्थित किया जाता है।

बाष्पीकरण ब्लॉक के सामने भट्टियों के बाद गैस का तापमान 1170 o C तक बढ़ जाता है। बॉयलर के बाष्पीकरणीय भाग में, प्रक्रिया गैस को 450 o C से 480 o C तक ठंडा किया जाता है, ठंडे बाईपास के बाद, गैस का तापमान 390 o C से घटकर 420 o C हो जाता है। कूल्ड प्रोसेस गैस को सल्फ्यूरिक एसिड उत्पादन के बाद के चरण में भेजा जाता है - एक संपर्क तंत्र में सल्फर डाइऑक्साइड का सल्फर ट्राइऑक्साइड में ऑक्सीकरण।

विकिपीडिया से।

सल्फर के अग्नि गुण।
बारीक पिसा हुआ सल्फर नमी की उपस्थिति में, ऑक्सीकरण एजेंटों के संपर्क में, और कोयले, वसा और तेलों के मिश्रण में भी रासायनिक सहज दहन के लिए प्रवण होता है। सल्फर नाइट्रेट्स, क्लोरेट्स और परक्लोरेट्स के साथ विस्फोटक मिश्रण बनाता है। ब्लीच के संपर्क में आने पर यह अनायास ही जल जाता है।

बुझाने वाला मीडिया: पानी स्प्रे, वायु-यांत्रिक फोम।

डब्ल्यू मार्शल के अनुसार, सल्फर धूल को विस्फोटक के रूप में वर्गीकृत किया गया है, लेकिन एक विस्फोट के लिए धूल की पर्याप्त उच्च सांद्रता की आवश्यकता होती है - लगभग 20 ग्राम / वर्ग मीटर (20,000 मिलीग्राम / वर्ग मीटर), यह एकाग्रता अधिकतम अनुमेय एकाग्रता से कई गुना अधिक है कार्य क्षेत्र की हवा में एक व्यक्ति - 6 मिलीग्राम / वर्ग मीटर।

वाष्प हवा के साथ एक विस्फोटक मिश्रण बनाते हैं।

गंधक का दहन द्रवों के दहन के समान गलित अवस्था में ही होता है। जलते हुए सल्फर की ऊपरी परत उबलती है, जिससे वाष्प बनते हैं जो 5 सेमी तक की फीकी लौ बनाते हैं। सल्फर को जलाने पर लौ का तापमान 1820 ° C होता है।

चूँकि वायु की मात्रा में लगभग 21% ऑक्सीजन और 79% नाइट्रोजन होता है, और जब सल्फर को जलाया जाता है, तो SO2 की एक मात्रा ऑक्सीजन की एक मात्रा से प्राप्त होती है, गैस मिश्रण में सैद्धांतिक रूप से संभव SO2 की अधिकतम सामग्री 21% होती है। व्यवहार में, दहन हवा की एक निश्चित अधिकता के साथ होता है, और गैस मिश्रण में SO2 की मात्रा सामग्री सैद्धांतिक रूप से संभव से कम होती है, आमतौर पर 14 ... 15%।

फायर ऑटोमैटिक्स द्वारा सल्फर के दहन का पता लगाना एक कठिन समस्या है। मानव आंख या वीडियो कैमरा से लौ का पता लगाना मुश्किल है, नीली लौ का स्पेक्ट्रम मुख्य रूप से पराबैंगनी रेंज में होता है। आग में उत्पन्न गर्मी के परिणामस्वरूप अन्य सामान्य ज्वलनशील पदार्थों की आग की तुलना में तापमान कम होता है। हीट डिटेक्टर के साथ दहन का पता लगाने के लिए, इसे सीधे सल्फर के करीब रखना आवश्यक है। इंफ्रारेड रेंज में सल्फर की लौ विकीर्ण नहीं होती है। इस प्रकार, सामान्य इन्फ्रारेड डिटेक्टरों द्वारा इसका पता नहीं लगाया जाएगा। वे केवल द्वितीयक आग का पता लगाएंगे। सल्फर की लौ जलवाष्प का उत्सर्जन नहीं करती है। इसलिए, निकल यौगिकों का उपयोग करने वाले पराबैंगनी लौ डिटेक्टर काम नहीं करेंगे।

सल्फर गोदामों में अग्नि सुरक्षा आवश्यकताओं का अनुपालन करने के लिए, यह आवश्यक है:

संरचनाओं और प्रक्रिया उपकरण को नियमित रूप से धूल से साफ किया जाना चाहिए;
दरवाजे खुले होने के साथ प्राकृतिक वेंटिलेशन द्वारा भंडारण कक्ष को लगातार हवादार किया जाना चाहिए;
बंकर की जाली पर सल्फर गांठों को कुचलने के लिए लकड़ी के हथौड़ों या गैर-स्पार्किंग सामग्री से बने उपकरण के साथ किया जाना चाहिए;
उत्पादन सुविधाओं के लिए सल्फर की आपूर्ति के लिए कन्वेयर मेटल डिटेक्टरों से सुसज्जित होना चाहिए;
सल्फर के भंडारण और उपयोग के स्थानों में, उपकरणों (पक्षों, एक रैंप के साथ दहलीज, आदि) प्रदान करना आवश्यक है जो आपात स्थिति में सुनिश्चित करते हैं कि सल्फर पिघल कमरे या खुले क्षेत्र के बाहर नहीं फैलता है;
सल्फर गोदाम में यह निषिद्ध है:
खुली आग के उपयोग के साथ सभी प्रकार के कार्यों का प्रदर्शन;
तेल से सने लत्ता और लत्ता को स्टोर और स्टोर करें;
मरम्मत करते समय, स्पार्किंग सामग्री से बने उपकरण का उपयोग करें।